化学会社の海外進出一覧 JSR   米国

 

 

北米での合成樹脂の販売及び技術サービス

社名 Techno Polyner America, Inc.
場所 Milford, OH
株主 JSR
設立 2002/2/12
能力  
備考  

半導体用フォトレジストその他 

社名 JSR Micro, Inc.
 http://www.jsrmicro.com/index.php/About/
場所 米国カリフォルニア州
株主 JSR 100%
設立  
能力  
備考 2019/7
最先端半導体向け機能性洗浄剤の製造能力増強のため、米国オレゴン州に新規工場の建設を開始。投資金額は約100億円、2020年稼働開始予定。
最先端半導体材料製造の更なる拡張スペースを有しており、北米製造拠点として位置付けていく。
 http://www.jsr.co.jp/news/0000827.shtml

 

 

バイオ医薬品開発・製造受託

社名 KBI Biopharma Inc.
  http://www.kbibiopharma.com/
場所 Durham, North Carolina
株主 2015/2/26 共同買収合意
 JSR 51%
 シミックホールディングス 5%
 産業⾰新機構(INCJ) 44%
   http://www.jsr.co.jp/news/0000592.shtml
設立 1996
能力  
備考 April 21, 2022
KBI Biopharma, Inc. (KBI), a JSR Life Sciences company, held a ribbon-cutting at the company’s new state-of-the-art $150 million, 150,000 square-foot commercial manufacturing facility in Research Triangle Park (RTP), North Carolina.

 

がん、炎症性疾患、心血管疾患及び代謝性疾患領域向けの薬効試験サービスの提供 及び 抗体医薬開発

社名 Crown Bioscience Inc.
場所 登記 Cayman Islands
上場 Taipei Exchange →取り止め

Global Headquarters: San Diego, Cal. USA

拠点:UK、オランダ、北京、上海、蘇州、江蘇省太倉、広東省中山、台湾台北

株主 JSR 100% (2018/6 )
  https://www.jsr.co.jp/news/assets/pdf/20171220.pdf
設立 2006
能力  
備考 2021/5 オランダの開発受託会社(CRO) OcellO B.V.を買収

2020/4   主要な学術医療センターからユニークなモデルを取得しPDXコレクションを拡大

2022/6 JSR、がんオルガノイド用いた前臨床受託、日本国内でサービス開始

 

 

 

 次世代 EUV ⽤メタルレジストメーカー

社名 Inpria Corporation
場所 オレゴン州コーバリス
株主 JSR  100%
2021/9/17 
79% 1 分の株式を追加取得し、⼦会社とする
 https://ssl4.eir-parts.net/doc/4185/tdnet/2025424/00.pdf
 

JSR
  2017/7  Series B Fundingに参加
        http://www.jsr.co.jp/news/0000742.shtml

led by existing investor, Samsung Ventures, and included participation from current investors ALIAD (Air Liquide’s venture capital investment arm), Applied Ventures (the venture capital arm of Applied Materials, Inc.), and Intel Capital. Leading photoresist supplier JSR Corporation also joined this round as a new investor.

設立 2007年
能力  
備考 非化学増幅型金属含有EUVレジストの開発

Inpria は、2007 年の設⽴以来、メタル EUV レジストの開発に取り組んでおり、主要製品であるスズ酸化物を主成分とするメタルレジストは、EUV 露光系で世界最⾼性能の限界解像度を達成しています。さらに、従来のレジストに⽐べドライエッチング時のパターン転写性能が⾼く半導体の量産プロセスに対しても優れた適正を有しています。